近年研究方向

研究成果說明:

1. 以泛函密度理論,計算在第一、二、三列過渡元素及系元素中,電子能階之相對論效應。我們自行開發程式,設計出LDALSDGGALSD-OEPGGA-OEP等不同近似。發現若同時考慮gradient修正及正確之庫倫力(-1/r)s-ionization能量之結果最接近實驗值。      

˙Chung-Yuan Ren , H. T. Jeng and C. S. Hsue,

     " Relativistic density-functional calculations of interconfigurational energies for second and third transition-metal rows ",

     Phys. Rev. B66, 125105 (2002) (SCI).

˙Chung-Yuan Ren                   ,

Relativistic density-functional all-electron calculations of interconfigurational energies of lanthanide atoms,  J. Chem. Phys. 121, 11073 (2004) (SCI).

˙Chung-Yuan Ren,

 Gradient-corrected density-functional potential with correct aymptotic behavior: Application to interconfigurational energies of transition-metal atoms, J. Chem. Phys. 122, 244109 (2005) (SCI). 

2. image theory理論下,分子間之吸引力(van der Waal's Force)會因接近物質表面而變弱。我們以此框架,探討惰性氣體在石墨晶體上物理吸附之行為。發現計算結果與實驗值吻合,反映出image theory理論在該物理吸附問題上確實不可忽略。

˙Chung-Yuan Ren and C. S. Hsue

         " Viral coefficients of rare gases on xenon-plated graphite using image theory ", Phys. Rev. B67, 115411(2003).

3. 密度泛函理論為基礎,用修改後之Sternheimer方程式來計算closed -shell元素之極化率( polarizability)使用該方程式可直接將問題轉成解線性方程式,而不需大費周章將矩陣對角化。這樣能節省大量時間而得到相同結果。

˙Chung-Yuan Ren and C. S. Hsue,                                                                           

Atomic polarizabilities with optimizedeffective potential and

  self-interaction correction,

  Chin. J. Phys. 42, 162(2004) (SCI).

 4. VASP,探討透明導電複合材料(ITO)之電子結構。尤其是微量及大量錫Sn)對氧化銦(In2O3)之影響。實驗數據顯示,在In2O3:Sn(ITO)中,少許錫(6 at%)可增加其導電率。但當錫超過此值,電阻反而變高。直到約45-55 at% 時,電阻才又下降。結構亦變成In4Sn3O12,近來更發現加入Sb時,In5SnSbO12導電率增加一個數量級。我們以spatial separation效應,成功解釋這些透明導電氧化物導電之機制。

˙Chung-Yuan Ren , Shan-Haw Chiou and C. S. Hsue,

 Ga-doping effects on electronic and structural properties of wurtzite ZnO, Physica B 349, 136(2004) (SCI).

˙Chung-Yuan Ren, S. H. Chiou, and J. Choisnet,

First-principles calculations of the band electronic structures of In4Sn3O12 and In5SbSnO12, J. Appl. Phys. 99, 23706 (2006) (SCI).

5.利用VASP,探討金原子被吸附在矽表面上的重構現象Si(111)-Au(5x2) surface reconstruction。研究指出該吸附會形成許多相。特別的是當金原子以0.4ML濃度吸附在(111)面上時STM像顯示出為5x2週期的結構且重構後的表面呈現出一維之電子結構。但真正原子排列方式至今仍無定論,現在以Erwin Riikonen Sanchez-Portal 所提之模型較能吻合實驗上的量測。 基於RS模型,我們更進一步提出新的原子排列模型,能量不僅Erwin者相當且其更細微之電子結構及STM像亦和實驗吻合。

˙ Chung-Yuan Ren*, Shiow-Fon Tsay, and Feng-Chuan Chuang,

First-principles study of the atomic and electronic structure of the Si(111)-(5 × 2)-Au surface reconstruction,

 Phys. Rev.B76, 75414 (2007)

      6. 電子部件上往往要鍍覆可焊性鍍層,以確保良好SnSn-Pb合金鍍層具有優良的可焊性,已經廣泛

         地應用於電子工業領中。但是Sn-Pb合金鍍層中含有污染環境的鉛,錫鍍層容易產生導致電路短路

         了確保接可靠性,熱處理以後的可焊性和鍍層外觀仍然優良的Sn-Cu合金因不具污染問題而更

         顯重要我们將以第一原理計算研究其應力特性等

˙Jiunn Chen, Yi-Shao Lai, Chung-Yuan Ren, and Di-Jing Huang,

First-principles calculations of elastic properties of Cu3Sn, Appl. Phys. Lett. 92, 081901 (2008). (NSC 95-2112-M-017-004).

 ˙  Jiunn Chen*, Yi-Shao Lai,  Ping-Feng Yang,  Chung-Yuan Ren, and Di-Jing Huang,  "Structural and elastic properties of Cu6Sn5 and Cu3Sn from first-principles calculations"  accepted by  J. Mater. Res. (2009).

 

7.多鐵性磁電複合材料(magnetoelectric multiferroics) 是同時具有磁性及多鐵性的材料,並可藉外界之磁()場控制材料的電() 性。Hexagonal RMnO3(R=Sc.Y.Ho-Lu)為多鐵性磁電複合材料四大類的其中之。當R之半徑大時,RMnO3會以一般perovskite結構存在。但若R半徑較小時,則會以六角堆積成晶體。我們發現在這類型材料中,若R的半徑愈小,則其電偶極矩會愈大。並計劃尋找新材料是具有高磁相變的臨界溫度

 ˙Chung-Yuan Ren*,

          "Atomic, electronic, and ferroelectric properties of manganite RMnO3 (R=Ho, Er, Tm, Lu) in hexagonal and   orthorhombic phases",  Phys. Rev. B79, 125113 (2009)

˙T. R. Chang, H. T. Jeng*, Chung-Yuan. Ren*, and C. S. Hsue,

Charge-Orbital Ordering and Ferroelectric Polarization in Multiferroic TbMn2O5,

Phys. Rev. B84, 024421, 2011.

 

8.挫折性材料(frustrated systems)中,由於幾何結構或磁交換 J 之間彼此競爭,無法滿足所有磁矩對之磁性作用而找到最低能量狀態。這類磁挫折性物質極早就被科學家討論,並多以統計學及modeling方法來研究相關性質。挫折性在低維度 (low-dimensionality)及低自旋值(low spin value)中極為明顯。而挫折性又與量子擾動(quantum fluctuation)息息相關。故對挫折性之探討將有助於了解量子擾動對磁矩有序排列的影響,近而調控有序排列的方式。我們預測 (CuCl)LaNb2O7之原子結構為Pbam,並旋即被實驗證實。

Chung-Yuan  Ren* and C. Cheng,

Atomic and magnetic structures of (CuCl)LaNb2O7 and (CuBr)LaNb2O7: Density functional calculation,

Phys. Rev. B82, 024404, (2010).

˙Chung-Yuan  Ren,

DFT study of S=1/2 Kagome antiferromagnets, (to be published)

 

9.21世紀前,工業應用基本上利用電子之電荷來研究設計電子元件及相對電路問題,形成所謂古典電子電路學。但現今利用操控電子之另一自由度自旋,形成所謂自旋電子學。這門顯學是現代理論物題及應用科學相當重視的一個領域,對元件及儲存技術有的重要貢獻。其中因structure inversion asymmetry引起之Rashba及因bulk inversion asymmetryDressedhaus 相對論效應對spin-splittng 有重要關連,我們利用VASP hybrid functionalGW修正更精確,計算各種diamondwurzite結構之能帶自旋分裂,來探討相對論效應對能帶之影響。

               ˙C. Y. Ren and M. E. Lee, at ell, (to be published).